1. 招標條件 本招標項目磁控濺射金屬鍍膜機招標人為中國電子科技集團公司第十一研究所，招標項目資金來自自有資金，出資比例為100%。該項目已具備招標條件，現(xiàn)對磁控濺射金屬鍍膜機進行國內公開招標。
2. 項目概況與招標范圍 2.1 招標編號：ZKX20250452A003
2.2 招標項目名稱：磁控濺射金屬鍍膜機。
2.3 數(shù)量：1臺。
2.4主要組成：
磁控濺射金屬鍍膜機主要由真空室、真空系統(tǒng)、工件架及工件盤、濺射源系統(tǒng)、離子源系統(tǒng)、控制及監(jiān)控系統(tǒng)、氣路傳輸系統(tǒng)等構成。
2.5 交貨地點：甲方營業(yè)場所所在地。
2.6 交貨期： 合同簽訂后5個月內。
3.投標人資格要求 3.1投標人須具有獨立承擔民事責任能力的在中華人民共和國境內注冊的法人或其他組織，具備有效的營業(yè)執(zhí)照或事業(yè)單位法人證書或其它營業(yè)登記證書。
3.2投標人須提供2023年（如投標人成立年限少于要求的年限需提供成立以來的）經第三方審計的財務報表復印件（財務報表應至少包括審計報告正文、資產負債表、現(xiàn)金流量表、利潤表。若投標人為事業(yè)單位，可提供內審財務報告），或開標前3個月內銀行出具的資信證明原件或復印件（注明復印件無效的必須提供原件）。